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硬質(zhì)合金刀具的功能

1）改變工件坐標(biāo)系，G10L2P__IP__;2）刀具壽命管理，G10L3P__;3）在附加工件坐標(biāo)系中設(shè)置工件零點偏移G10L20P__IP__;

4）改變刀具補(bǔ)償值，G10L10(11/12/13)P__R__;5）參數(shù)的輸入，G10L50;（1） P: 選擇的特殊偏置，由于P是跟隨在L后面的選項，在不同的L種類中P的含義不同。G10L10/L11 P__R__中：P__用來代表刀具長度補(bǔ)償H代碼。如：G10 L10 P1 … P1表示H01G10L12/L13 P__R__中：P__用來代表刀具半徑補(bǔ)償D代碼。如：G10 L12 P1 … P1表示D01G10L2 P__IP__中：P0、P1-P6用來表示基本偏置EXT、G54-G59工件坐標(biāo)系。（P1=G54、P2=G55、P3=G56、P4=G57、P5=G58、P6=G59）G10 L2 P0 …P0表示EXT基本坐標(biāo)系。G10 L2 P1 …P1表示G54工件坐標(biāo)系。G10L20 P__IP__中：P__用來表示附加工件坐標(biāo)系。

（2）R:長度或直徑偏置量的相對量。L10中：R用來表示長度偏置的數(shù)值。G10 L10 P1 R100.3 表示長度H01里面輸入100.3L11中：R用來表示長度偏置的增量值。G10 L11 P1 R2.1 表示在原有的長度H01里面增加2.1L12中：R用來表示半徑偏置。G10 L12 P1 R4.1 表示半徑補(bǔ)償D01里面輸入刀補(bǔ)4.1L13中：R用來表示半徑偏置的增量值。G10 L13 P1 R-0.1 表示在原有的半徑D01里面減去0.1（3）R值可以疊加使用，例如：G10 L10 P1 R100.3G10 L11 P1 R2.1運(yùn)行該程序段后刀具長度補(bǔ)償偏置里面實際值為102.4G10 L12 P1 R4.1G10 L13 P1 R-0.1運(yùn)行該程序段后刀具半徑補(bǔ)償偏置里面實際值為4.00

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視頻作者：馬鞍山市金菲硬質(zhì)合金刀具有限公司

刀具偏移的含義

硬質(zhì)合金刀具偏移是用來補(bǔ)償假定刀具長度與基準(zhǔn)刀具長度之長度差的功能。車床數(shù)控系統(tǒng)規(guī)定X軸與Z軸可同時實現(xiàn)刀具偏移。刀具幾何偏移：由于刀具的幾何形狀不同和刀具安裝位置不同而產(chǎn)生的刀具偏移。刀具磨損偏移：由刀具刀尖的磨損產(chǎn)生的刀具偏移。

刀具偏移的應(yīng)用

利用刀具偏移功能，可以修整因?qū)Φ恫徽_或刀具磨損等原因造成的工件加工誤差。例如：加工外圓表面時，如果外圓直徑比要求的尺寸大了0.2mm，此時只需將刀具偏移存儲器中的X值減小0.2，并用原刀具及原程序重新加工該零件，即可修整該加工誤差。同樣，如出現(xiàn)Z方向的誤差，則其修整辦法相同。

1.化學(xué)退涂

在對硬質(zhì)合金刀具(Ti,Cr)N多組元硬質(zhì)膜系退涂工藝進(jìn)行研究后，得到所用的退涂液濃度（wt%）為：葡萄糖酸鈉1.5%-3.5%，NaOH6.5%-10%，含30% H2O2的(wt%)20%-25%，十二烷基磺酸鈉0.2%-0.4%，三磷酸鈉0.2%-0.4%，剩余為蒸餾水，NaOH(wt%)：含30% H2O2的(wt%)為1∶3.5-1∶2，且二者之和必須為29%-33%(wt%)，同時要求十二烷基磺酸鈉(wt%)：三磷酸鈉(wt%)為1∶1-1∶0.7，且二者之和必須為0.4%-0.8%(wt%)。研究發(fā)現(xiàn)(Ti, Cr)N三組元硬質(zhì)膜的退除是沿著缺陷處以脫落方式退除，并且后退除的膜層是沿著先退除的膜層邊緣繼續(xù)脫落，直到膜層退除干凈。對于(Ti,Al,Zr,Cr)N多組元硬質(zhì)膜、(Ti,Al,Cr)N四組元硬質(zhì)膜。

在關(guān)于電化學(xué)氮化鉻涂層剝離的研究文獻(xiàn)中，確定了一種三電極電解池中剝離單一涂層或復(fù)合涂層在堿性溶液中的方法，采用SCE電極、鉑電極、工作電極三個電極，氮化物涂層在電流的作用下具有較強(qiáng)的表面活性，產(chǎn)生更多的可溶成分，電解過程簡單易于控制，當(dāng)電流突然升高時，涂層完全剝離基體表面。此法退涂的表面均勻無點蝕。退涂的工件為陽極，室溫下在由磷酸、硫酸、丙三醇及去離子水混合組成的酸性電解液中進(jìn)行電解，直至類金剛石涂層退涂盡為止。該方法不僅能夠快速退除表面的類金剛石薄膜涂層，同時不對基體表面產(chǎn)生破壞性腐蝕，對工件尺寸及形狀改變微小，涂層退除之后能夠重新涂覆使用。

3.蝕刻退涂

主要利用離子束對硬質(zhì)涂層進(jìn)行照射蝕刻來進(jìn)行退涂。純機(jī)械的祛除硬質(zhì)涂層，不與基體和涂層發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，因此不必考慮化學(xué)腐蝕引起的表面脆化等問題，但缺點是退涂速度緩慢、退涂效率低。

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